粉末制备:通过碳热还原实现局部突破
生产主流方法 氮化铝(AlN)粉末 (例如直接氮化)依赖于高纯度铝和极端条件,而像德山这样的日本公司则主导着 高热导率AlN衬底 市场。中国研究人员创新了 AlN碳热还原工艺利用氧化铝和炭黑在1600°C下同时实现还原和氮化。这大大降低了 AlN粉末生产 成本,成本降低了 60%。通过调整反应参数,可以制造出亚微米 氮化铝粉末 (0.5至1.5微米) ,满足 AlN在5G中的应用 。
低温烧结:纳米改性降低能源消耗氮化铝的致密化烧结原本需要1800℃以上的高温,能耗占生产成本的35%。中科院上海硅酸盐研究所的团队通过纳米钇铝石榴石(YAG)包覆改性技术,在粉体表面形成活性层,将烧结温度降至1480℃。这一技术不仅降低能耗30%,还减少了烧结助剂Y₂O₃的添加量(从5wt%降至2wt%),避免第二相(如YAlO₃)对热导率的损害。目前,采用该技术的氮化铝基板热导率已稳定在190W/(m·K)以上,接近理论极限值。
随着碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)器件的普及,芯片结温突破200℃,传统氧化铝基板已接近性能极限。2023年全球氮化铝基板市场规模预计达12亿美元,年复合增长率达15%。在车载雷达、数据中心光模块等高端领域,氮化铝正加速渗透。
中国“十四五”规划优先 氮化铝粉末供应 链本地化,预计2025年国产氮化铝粉体自给率将提升至50%以上。
氮化铝与氧化铝的竞争,本质上是材料性能与产业化能力的博弈。尽管氮化铝在技术上占据高地,但其普及仍需跨越成本、工艺和市场认知的多重门槛。随着国产化进程加速与新兴需求爆发,未来十年或将成为氮化铝从“实验室明星”向“工业主力”转型的关键期。对于从业者而言,理解这一进程中的技术细节与市场逻辑,或许能抓住下一代电子材料变革的机遇。
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