氮化铝(AlN) 氮化铝(AlN)晶体呈六方结构,纯态下通常呈蓝白色,但实际应用中通常呈灰色或灰白色。氮化铝(AlN)作为一种高性能先进陶瓷材料,具有优异的导热性、可靠的电绝缘性、低介电常数和损耗、无毒性以及与硅相当的热膨胀系数。这些优异的特性使其成为下一代高集成度应用的理想选择—— 半导体基板 和 电子封装材料。下面就AlN的制备做一下简单的介绍。
氮化铝粉末 是氮化铝陶瓷产品的基础原料。其纯度、粒度、氧含量及杂质含量对最终产品的热导率、烧结工艺、成型工艺等均有显著影响,最终决定产品的性能。氮化铝粉末的主要合成方法包括:
直接氮化法
铝粉在高温(800°C-1200°C)下与氮气发生反应,生成AlN粉末。
碳热还原法
氧化铝(Al₂O₃)和碳粉的混合物在流动的氮气氛围中,在高温(1400°C-1800°C)下进行还原和氮化,生成 AlN 粉末。
自蔓延高温合成(SHS)
该方法利用了铝粉和氮气之间的高放热反应。一旦点燃,反应就会持续进行,快速合成氮化铝。
化学气相沉积(CVD)
挥发性铝化合物与氮气或氨气发生反应,从气相中沉积出AlN粉末。根据铝源的不同,CVD可分为无机法(例如卤化铝)和有机法(例如烷基铝)。
这种先进材料以其卓越的性能正在彻底改变电子行业——选择 AlN 可以在半导体和封装应用中提供高性能、可靠的解决方案!
厦门钜瓷科技有限公司采用碳热还原法制备氮化铝粉末,合成粉末纯度高,性能稳定,粒度细小均匀,可用于制备削去高级粉末。厦门钜瓷科技作为领先的 中国氮化铝粉末供应商,致力于为国内外提供高纯度、高品位的氮化铝热管理材料。
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