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  • 80μm高导热AlN填料——解决电子产品过热问题
    80μm 氮化铝(AlN)填料由厦门聚瓷科技研发的专为电子封装设计的高性能陶瓷材料, 热界面材料(TIM)及高导热复合材料。该产品具有精确控制的粒径分布(D50≈80μm)、超高纯度(≥99%)和优异的导热系数(170-200 W/(m·K)),可显著提升聚合物、金属或陶瓷基体的热管理效率。非常适合5G通信、新能源汽车、电力电子等领域对散热性能要求严格的应用。 主要特点: 1、卓越的导热性 理论热导率为170–200 W/(m·K),有效解决电子设备的热管理难题。 2、精确的粒度控制 平均粒径(D50)为80μm,分布均匀,确保优异的分散性以及与树脂、金属或陶瓷基质的相容性。 3、高纯度、低氧含量 纯度≥99%,氧含量≤1%,保证高频、高压应用的化学稳定性和电绝缘性。 4、低介电常数和损耗 低介电常数(ε≈8.8)和最小介电损耗(tanδ < 0.001),非常适合高频电路封装。 5、优异的机械性能 高硬度和耐磨性增强了复合材料的机械强度。
  • 120 μm AlN 填料-高纯度散热材料
    厦门钜瓷科技的120μm 氮化铝(AlN)填料 粉末是一种高纯度、高导热陶瓷粉末材料,专门用于高性能导热复合材料、电子封装、 热界面材料(TIM)以及高导热塑料/橡胶。其粒径分布均匀(D50≈120μm),化学稳定性优异,在保持优异的电绝缘性和机械强度的同时,显著提高基体材料的导热系数。 主要特点: 1、超高导热率 理论热导率达170-200W/(m·K),有效提高复合材料的散热效率。 2、精确的粒度控制 中位粒径(D50)为120μm,分布均匀,易于分散,与树脂/聚合物基质具有良好的相容性。 3、高纯度、低氧含量 纯度≥99%,氧含量≤1%,最大限度减少杂质对介电性能和热导率的影响。 4、优异的绝缘性能 体积电阻率>10¹⁴Ω·cm,适用于要求高绝缘的电子用途。 5、化学稳定性 耐高温、耐腐蚀,在高温或潮湿环境下保持性能稳定。 6、表面改性 可以根据要求用硅烷偶联剂或其他表面改性剂进行处理,以增强与基质的界面结合。
  • 30μm球形氮化铝(AlN)粉末 - 170W/mK导热电子级填料
    30微米氮化铝(AlN)陶瓷微球是一种高性能无机非金属材料,具有优异的导热性、电绝缘性、耐高温性和化学稳定性,其微米级球形结构在先进电子封装、复合材料增强体、热界面材料等领域具有广阔的应用前景。 30μm氮化铝(AlN)陶瓷微球的主要特点: 高热导率——AlN 微球的热导率为 170-200 W/(m·K),可显著增强热界面材料(TIM)的散热以及电子包装。 出色的电绝缘性——超高电阻率(>10¹⁴ Ω·cm)使这些 AlN填料 非常适合高压应用、PCB 基板和绝缘涂层。 耐高温——2200°C 的熔点确保在极端环境下的稳定性,适用于航空航天、电力电子和 LED 散热器。 低 CTE(4.5×10⁻⁶/°C)——匹配半导体材料(Si、GaN、SiC),降低芯片封装和功率模块中的热应力。 高纯度和化学稳定性——耐腐蚀、防酸碱,非常适合恶劣的工业应用和化学环境。 均匀的球形结构——窄粒度分布(D50≈30μm)确保聚合物、复合材料和 3D 打印材料中的卓越流动性和均匀分散。
  • 15μm单晶氮化铝(AlN)粉末 - 高导热绝缘填料
    氮化铝(AlN)导热填料 是一种高性能陶瓷材料,因其卓越的性能,广泛应用于热管理应用。以下是其功能作用的详细分析: 1. 散热(主要功能) 高导热系数(~170-200 W/mK)——有效地将电子元件(例如 CPU、电源模块、LED)热点处的热量转移出去,使 AlN 粉末成为 高导热填料. 降低热阻——改善复合材料的热流(例如, 热界面材料(TIM)、环氧树脂),增强电子冷却解决方案的性能。 2.电气绝缘 介电强度 (>15 kV/mm) – 防止导热时发生电气短路,这对于高压应用(例如电力电子设备、电动汽车电池)至关重要。 3.热膨胀匹配 CTE(热膨胀系数)~4.5 ppm/K – 与硅和半导体紧密匹配,最大限度地减少键合界面(例如芯片封装)中的应力,使 AlN单晶填料成为半导体热管理的首选。 通过加入超纯 AlN 填料或纳米级 AlN 粉末,制造商可以优化导热性,同时保持电绝缘性,使其成为先进的热管理陶瓷材料的首选.

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